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x射線熒光膜厚分析儀
  • x射線熒光膜厚分析儀
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產(chǎn)品描述

分析范圍0-50微米 分析精度5 較薄測試0.005微米 儀器架構上照式 儀器重量90公斤 分析時間30S 環(huán)境濕度小于70 環(huán)境溫度15-30度 準指孔0.2mm 重復性0.1

x射線熒光膜厚分析儀技術參數(shù)和性能介紹,x射線熒光膜厚分析儀是用來測量材料及物體厚度的儀表。在工業(yè)生產(chǎn)中常用來連續(xù)或抽樣測量產(chǎn)品的厚度(如鋼板、鋼帶、薄膜、紙張、金屬箔片等材料)。滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測試需求。φ0.1mm的小孔準直器可以滿足微小測試點的需求。高精度平臺可測試點,重復定位精度小于0.005mm。采用高度定位激光,可自動定位測試高度。定位激光確定定位光斑,確保測試點與光斑對齊。

產(chǎn)品技術指標

型號:Thick 800A

元素分析范圍從硫(S)到鈾(U)。
同時可以分析30種以上元素,五層鍍層。
分析含量一般為ppm到99.9 。
鍍層厚度一般在50μm以內(每種材料有所不同)
任意多個可選擇的分析和識別模型。
相互立的基體效應校正模型。
多變量非線性回收程序
度適應范圍為15℃至30℃。
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。
外觀尺寸: 576(W)×495(D)×545(H) mm
樣品室尺寸:500(W)×350(D)×140(H) mm
重量:90kg


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產(chǎn)品推薦

Development, design, production and sales in one of the manufacturing enterprises

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